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中央美院设计系考什么?—德州巨匠画室设计教案


从2015年的招生考试开始中央美术学院的设计考试科目为造型基础、设计基础。

在此之前中央美术学院的设计考试内容和形式发生了几次大的变化,在关于央美设计课程实际教学的过程中我们一般会把这个过程概括的做一个介绍,让美术考生清晰的认识到在考题变化的过程中,有哪些形式是变化的还有哪些内容是一直未变的。

较为早期的时候中央美院的考试科目为四门:包含了设计素描、设计色彩、平面设计、立体设计。素描和色彩属于常规的基础性考察科目,几乎没什么变化,都是以考察考生对生活日常事物和场景的观察和描绘为主,内容多是静物场景类。

平面设计在1999年开始正式的作为单独一个科目出现在中央美术学院的考试内容中,并且一直持续到2015年,考题形式也从一开始的“一大三小”(三个创意稿并把其中一个放大成正稿)到后来的接近海报形式。画面的表现工具多以彩铅和马克笔为主,以考察某一个主题的含义和延伸意义为主,考察学生对某个字或者某个现象的多方位角度的思考和对具体画面内容的视觉表现能力。

立体设计早期作为中央美院设计考题四门中的一门,一开始的时候和中央美院的建筑学题目相同,在考题变化的过程中,有今年中央美术学院的设计系和建筑系考题中设计素描、设计色彩、立体设计题目完全一样,设计系比建筑系多考一门平面设计,之后建筑系的设计素描和色彩更倾向独立的对于空间场景的刻画,题目内容随之不同,08年的时候设计系的考题用任务场景速写替代了立体设计,在2015年之前设计写的考试题目为设计素描、设计色彩、平面设计和场景速写,场景速写的题目多为《考场中的三到五个人》这一半写生半默写的内容。建筑学院处理招生录取方式变为侧重文化课成绩,考试题目一直为设计素描、设计色彩和立体设计。

从03年到2015年这个阶段,中央美术学院的城市设计系一直没有单独考试和阅卷,作为中央美院设计系的第二志愿,以考设计系兼报城市设计系的形式招生和录取,专业名次和文化课分数要求都比设计系低一些。

中央美术学院设计考题比较大的变化和比较深刻的改革是在2015年,中央美术学院的设计系考题由4门变为2门:造型基础和设计基础,当然这个造型基础并不是指的我们传统理解的素描头像之类的,而是对于造型基础比较抽象的点线面和体块、质感的理解层次,考试用纸也从8k变为4K纸,考试时间也有所延长。

这一年中央美术学院的城市设计学院开始单独命题、单独阅卷、单独招生,而不是再作为设计学院考试的第二志愿存在,需要选择此专业的考试第一志愿报名,考试题目在最初的两年内是传统的素描头像照片、人物速写照片和设计基础三科,在之后也更为两门:设计基础和造型基础,考试形式、表现材料和时间与设计系同步,但是考试内容和画面形式和设计系最终要求有些差异。不过考试的考察方向大同小异,差别并没有很大。

经过多年的变化,中央美术学院形成了比较独立的考察内容和表现形式,更能挖掘考试的潜质,给更多具有优秀设计师特质和潜能的美术考生展现的舞台,这个过程也伴随着一个“反套路”的呼声,也是考题适应时代做出的变化。

考试内容除了对考试基础的空间、体积、质感等基础造型理解和能力之上,对考生的更高层次的思维和角度也提出了更高的要求,同时不变的是考生对于生活日常和社会新生事物的理解和改造能力。希望所有的同学都能深刻理解中央美院设计招生考试的本质和目的,针对性的准备和训练,才能达到更高的分数。